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​半导体洁净室无尘室工程

发布日期:2017-12-12 浏览次数:0

半导体洁净室无尘室工程

半导体洁净室洁净度往往受到气流的影响,换言之,即人、机器隔间、建筑结构等所产生的尘埃的移动、扩散受到气流的支配。

 

1.半导体洁净室系利用HEPA、ULPA过滤空气,其尘埃的收集率达99.97~99.99995%之多,因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外,尚有机器等发尘源,这些发生的尘埃一旦扩散,即无法保持洁净空间,因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。

 

2.半导体洁净室内的气流是左右洁净室性能的重要因素,一般洁净室的气流速度是选0.25~0.5m/s之间,此气流速度属微风区域,易受人、机器等的动作而干扰趋于混乱、虽提高风速可抑制此一扰乱的影响而保持洁净度、但因风速的提高,将影响运转成本的增加,所以应在满足要求的洁净度水准之时,能以最适当的风速供应,以达到适当的风速供应以达到经济性效果。

 

3.另一方面欲达到洁净室洁净度的稳定效果,均一气流的保持亦为一重要因素,均一气流若无法保持,表示风速有异,特别是在壁面,气流会延着壁面发生涡流作用,此时要实现高洁净度事实上很困难。

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